概述：

本機是根據石英晶片生產企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備，雙槽式設計，外殼采用電器控制元件。

主要特點：

帶有上下抖動功能，能有效充分的腐蝕晶片。

腐蝕槽可采用石英缸，也可采用進口PP槽。

自動補液，自動放液，減少人為操作。

水沖洗槽采用循環(huán)水，自動溢流，節(jié)約水源。

可采全自動方式，也可采用手動控制方式。